Tema: Katastrofer, terror og stressmestring

Associations between work environment and psychological distress after a workplace terror attack: The importance of role expectations, predictability and leader support

Birkeland, M. S., Nielsen, M. B., Knardahl, S., & Heir, T. (2015). Associations between work environment and psychological distress after a workplace terror attack: The importance of role expectations, predictability and leader support. PLoS ONE, 10(3). doi:10.1371/journal.pone.0119492

Faktorer i arbeidsmiljøet, spesielt støtte fra nærmeste leder, har betydning for hvordan de ansatte har det etter en katastrofe som 22. juli. Et godt arbeidsmiljø reduserer plager hos de ansatte.

Det vil si at de som opplevde et positivt arbeidsmiljø og mye støtte fra leder også opplevde mindre grad av psykiske plager, som for eksempel å føle seg engstelig, matt, anspent, nedtrykt eller ha søvnproblemer. Samtidig er det slik at de som ikke opplevde at arbeidsmiljøet og lederen var støttende, opplevde mer psykiske plager.

 Dette kommer frem i en ny artikkel fra forskere ved NKVTS. Tidligere studier har vist at det å være i direkte nærhet til en katastrofe, er en av de viktigste faktorene som har størst betydning for psykiske plager etter en slik hendelse. Denne studien bekrefter det funnet, men viser også at betydningen av støtte fra leder ser ut til å være like stor som betydningen av å ha være i bygningene da bombeangrepet skjedde.

 Det kan bety at arbeidsplasser som er flinke til gi informasjon om hva som skjer, lage forutsigbarhet, i arbeidsoppgaver for eksempel, og å ta vare på sine ansatte etter for eksempel terror, ulykker eller bare generelt når folk opplever vanskelige ting i livene sine, kan bidra positivt til sine ansattes psykiske helse.

Arbeidet med artikkelen er støttet av Rådet for psykisk helse og Extrastiftelsen.

Forskerne

  • Birkeland, Marianne Skogbrott

    Birkeland, Marianne Skogbrott

    Forsker II / Ph.d.

    Vis profil
  • Heir, Trond

    Heir, Trond

    Forsker I/Professor II ,UiO / dr. scient.

    Vis profil